Metal-free UPW polishing solutions
纯而又纯的纯水抛光系统是半导体厂运维人员的期待和执着追求
当今的集成电路的阵列是如此的复杂,以至于些微的污染就会对最终产品产水带来影响。 Ovivo始终追求消除所有这些潜在的污染源。
联系专家通过组合特殊的PVDF-HP或Halar® E-CTFE等超纯材料,Ovivo的无金属离子的超纯水抛光系统可以实现总有机碳小于1ppb和过氧化其小于10ppb。
对于接液部分,Ovivo采用半导体级别的清洗程序来洗净,此外,我们的解决方案要求供应链全程管控以确保产品的可靠性和持续性。
为了支撑无金属离子泄漏的抛光系统,我们研发了下列新产品:
- U-PUR. 制备超纯水的最紧凑的无金属接触的纯水装置 (含紫外-氧化/催化和抛光混床)
- UPW Pumps. 专门设计了应用于超纯水生产制备的非金属的超纯水泵
- CFHA Cartridge Filter Housings. 应用于超纯水抛光步骤的无金属接触的终端滤芯过滤器
这些产品使得超纯水抛光系统的接液部分和不锈钢的接触最小化
传统的抛光系统含有相当数量的电抛光的不锈钢设备,而我们的抛光系统里的超纯水泵和内衬氟塑料的离子交换设备,是整合了紫外处理设备并消除了接液部分的金属表面。
对于纯水生产而言,非金属水泵并不陌生,它的创新在于Ovivo的超纯水泵达到了新的高度和更高的流量。这些超纯非金属水泵的设计确保所有接液部分采用超纯的PVDF材料。通过将叶轮从不锈钢SS316L替代为超纯的PVDF材料,当运行中断、泵维护或更换密封后冲洗的时候,在产水过程中产生的带电颗粒被消除。
创新的U-PUR无金属制水设备可以去除微量的总有机碳和过氧化氢,同时它可产出远比传统设备纯而又纯的超纯水。该设计由于取消了连接管道、减少了金属裸露的污染风险,从而使得维护更便利。U-PUR消除了接液部分的金属表面,整合紫外设备和抛光混床为一体,彰显该设备在超纯水制备上的优势并将超纯水的品质提升到全新的高度。
CFEHA滤壳 (Cartridge Filter Housing according to European Standard with inside Halar coating)和CFAHA滤壳 (Cartridge Filter Housing according to ASME with inside Halar coating)按照ASME标准制造并内涂Halar,完全满足超纯水制备的特殊需求,两种型号的滤壳都是酸洗钝化并加涂Halar,这种优秀的滤壳是采用不锈钢SS316L制造并内表面加涂氟塑料。这可确保超纯水不再和裸露的金属表面接触,是纳米技术制造厂商的理想选择。
如需其它资料,可查询网站的单元设备的产品页面,或下载相关的产品手册/技术规格。