Ovivo
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无金属离子泄露的超纯水抛光系统
U-PUR
该U-PUR是市场上最简洁,无金属离子泄露的纯水装置,为半导体,医疗和制药行业提供超纯水(UPW)。

传统的抛光系统通常包含由电抛不锈钢制成的紫外线(UV)装置,它通常是氧化金属颗粒污染的来源。U-PUR无金属离子泄露的纯水装置能够去除水中总有机碳(TOC)和微量过氧化氢,其生产的超纯水的纯度远高于传统的系统。

为了满足日益增长的UPW制备需求,Ovivo创建了创新性U-PUR系统——一种无金属离子泄露的纯水装置,它结合了多个抛光步骤来去除水中TOC和微量过氧化氢。U-PUR系统所需管道少,减少了金属离子泄漏的风险,是一种低成本维护的系统。

此外,独立模块设计实现了安装及全球项目执行的灵活性,缩短了项目交付时间。相比传统UPW抛光系统,U-PUR具有更多显著优点,包括:

  • 简洁的设计
  • 低压力损失,简化的工艺流程 更少的管道,更少的摩擦损失
  • 优化电力需求,提高能源效率
  • 优化纯水系统投资和运营成本

 

抛光工艺
 
紫外线需要一个高反射的表面。虽然电抛光不锈钢具有很高的反射性,但圆柱体焊缝容易氧化而形成氧化铁(铁锈),因此必须要进行彻底钝化。
理想情况下,所有的焊缝都应该打磨坑洼的表面,然后进行酸洗和钝化。但实际并非总是如此,不锈钢中含有铬、镍和钼,在未彻底钝化时,这些离子会泄露到超纯水中,从而导致水质不合格。

抛光工艺

 

紫外线需要一个高反射的表面。虽然电抛光不锈钢具有很高的反射性,但圆柱体焊缝容易氧化而形成氧化铁(铁锈),因此必须要进行彻底钝化。

理想情况下,所有的焊缝都应该打磨坑洼的表面,然后进行酸洗和钝化。但实际并非总是如此,不锈钢中含有铬、镍和钼,在未彻底钝化时,这些离子会泄露到超纯水中,从而导致水质不合格。

U-PUR系统将UV与混床结合在一起,二者合一使不锈钢不与水接触从而避免金属离子的泄露。这大大的提高了UPW 的产水水质。

U-PUR系统将UV与混床结合在一起,二者合一使不锈钢不与水接触从而避免金属离子的泄露。这大大的提高了UPW 的产水水质。

近年来,过氧化氢——紫外线的副产物——已经成为很多讨论的话题。Ovivo在U-PUR中加入了一个额外的催化抛光步骤,可去除生成的过氧化氢。标准的二合一工艺可以在轻松升级为三合一工艺,无需更改系统。

近年来,过氧化氢——紫外线的副产物——已经成为很多讨论的话题。Ovivo在U-PUR中加入了一个额外的催化抛光步骤,可去除生成的过氧化氢。标准的二合一工艺可以在轻松升级为三合一工艺,无需更改系统。

U-PUR系统包含三个步骤:

  • 紫外线抛光紫外辐射单元(185和254 nm的LP-Hg灯)将有机化合物(TOC)氧化成羧酸和二氧化碳,使得后续工艺可以更好地去除这些化合物。紫外线装置是由高纯度石英制成,配置对254nm光的自反射涂层。
  • 抛光混床在抛光混床离子交换树脂中,除了去除最后残留的离子外,还去除了由紫外线氧化TOC生成的酸和二氧化碳。使得通过抛光树脂(OvivUP-M020)能够达到TOC < 1ppb。
  • 催化抛光。特殊的离子交换树脂(CatOX 8020)用于降解由光化学反应产生的过氧化氢(H2O2.),以达到< 1ppb H2O2。

U-PUR的处理能力高达50立方米/小时(220加仑/分钟),是高质量UPW系统的最简洁的解决方案。如需更多信息,请下载技术数据表。